研磨液研磨剤の機能は、被研磨物であるワークの表層の突起を除去(qù)して、ワーク表面の平坦性を向上させることである。 たとえば、外力を利用して半導體ウェーハを研磨する場合、研磨剤はウェーハの表面で化學反応によって生成されたパッシベーション層を除去(qù)して、目的の平坦度を処理します。 現在、一般的に使用されている研磨剤は、シリカコロイド、酸化ボウル、アルミナ、ナノダイヤモンドです。

腐食性媒體には、主に酸とアルカリが含まれます。

酸性研磨液は、腐食性の役割を果たし、研磨プロセスの除去(qù)率を高める可能性のある有機酸を使用することがよくありますが、腐食性が高く、選択性が低く、高い研磨裝置が必要です。銅、タングステン、その他の金屬材料の研磨によく使用されます。

現在、酸性研磨液には2種類の有機酸が使用されています。

1つは多官能基を持つアミノ酸で、もう1つは単純フシジン酸、軽フシジン酸、および両方の混合酸から選択されます。

この研究では、2種類の有機酸の混合物を使用した研磨液の除去(qù)率は、いずれかの種類の有機酸を単獨で使用した研磨液の除去(qù)率よりも高いことがわかっています。さらに、いくつかの研究では、研磨液のpH値の増加に伴い、化學研磨が二次的な役割を果たし、機械的研磨が支配的な役割を果たすため、研磨されるワークピースの表面の品質が低下することが示されています。調整のために有機酸を追加する必要があります。

   アルカリ性研磨液は、一般に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、有機アミンなどのアルカリ性物質を選択して、研磨液の酸性度およびアルカリ性を調整する。アルカリ性研磨液は腐食が少なく、選択性が高いため、シリコン、酸化物、フォトレジスト材料などの非金屬材料の研磨によく使用されます。しかし、アルカリ性の研磨液で酸化電位の高い酸化剤を見つけることは容易ではなく、研磨効果に影響を與えます。  一般的な添加剤には、酸化剤、潤滑剤、腐食防止剤、分散剤などがあります。

酸化剤は、研磨ワークピースの表面に酸化膜を形成できます。これは、後続の機械研磨に有益であり、それによって研磨効率と表面平坦性が向上します。潤滑剤は、研磨プロセス中の研磨物質と研磨ワークピースの表面間の摩擦を減らすために使用されます。腐食剤が適切な濃度と形態で環境（媒體）に存在する場合、材料の腐食を防止または減速できます。それを単獨で、またはいくつかの腐食防止剤と組み合わせて使用できます。分散剤は、研磨粒子間の反発力を高めることができます。特定の研磨剤の再結合を防止して、研磨液の安定性を確保し、ワークピースの表面欠陥を減らします。添加物の選択は非常に重要です。一部の研究者は、従來の金屬の腐食防止剤としてベンゾトリアゾールを使用すると、材料の表面のたるみを大幅に低減し、平面度を改善し、有機殘留物を低減できることを発見しました。

同時に、佐藤栄一氏は、化學機械研磨溶液の添加剤は次の條件を満たす必要があると考えています。1）添加剤分子は1つ以上の環狀官能基と分子構造内に少なくとも1つのCC結合を持っている。2）添加剤分子これには、少なくとも1つの-OH官能基と最大1つの-COOH官能基が含まれます。