圖片展示

APPLICATION FIELD 応用分野

應用領域系列

玻璃晶圓

——

玻璃晶圓具有光傳輸效率高的特點而被廣泛應用于半導體、光學等行業的生産制造過程中。具體應用方向包括微電機元件、CMOS、CCD傳感器、微波電路、物聯網陣列以及各類光學、激光器件的加工制造。 玻璃晶圓依照尺寸分爲2寸,4寸,6寸,8寸,12寸。 目前玻璃晶圓在衆多高新技術領域中應用廣泛,國内外的需求量也快速增長。


玻璃晶圓抛光皮

ガラスウェーハ

——

ガラスウエハーは光透過効率が高いという特徴があり、半導體・光學産業の製造工程で広く使用されています。 特定のアプリケーションの指示には、マイクロモーターコンポーネント、CMOS、CCDセンサー、マイクロ波回路、モノのインターネットアレイ、およびさまざまな光學デバイスとレーザーデバイスの処理と製造が含まれます。 現在、ガラスウエハーは多くのハイテク分野で広く利用されており、國内外の需要も急速に伸びています。

ガラスウエハー用ポリッシュレザー

聚氨酯抛光皮

介紹:由聚氨酯發泡制作而成,按照磨料填充物、硬度、等多種自定義選擇,可以根據客戶要求開槽。

圖片展示

ポリウレタン研磨パッド

ポリウレタンフォーム製で、研磨フィラー、硬度などのさまざまなカスタム選択に応じて、顧客の要件に応じて溝を付けることができます。

圖片展示

玻璃晶圓抛光液

氧化鋁抛光液

介紹:氧化鋁抛光液可用于金屬、激光晶體,矽片,半導體等産品的抛光,目前我司最小粒徑可做到0.05μm。

圖片展示

ガラスウェーハ用研磨液

氧化铈抛光液

介紹:采用嚴格的濕法微濾膜設備控制粒徑,搭配進口化學增強抛光助劑,統籌抛光液的流變性能達到高效的抛光效率優質的抛光表面。

圖片展示

アルミナ研磨液

アルミナ研磨液は、金屬、レーザー結晶、シリコンウエハー、半導體などの研磨に使用でき、現在最小粒子徑は0.05μmです。

酸化セリウム研磨液

厳格な濕式精密ろ過膜裝置を使用して粒子サイズを制禦し、インポートされた化學強化研磨添加剤を使用して研磨液のレオロジー特性を調整し、効率的な研磨効率と高品質の研磨面を実現します。

圖片展示
圖片展示

玻璃晶圓抛光粉

ガラスウェーハ用研磨粉

氧化铈抛光粉

介紹:sciyea系列氧化铈抛光粉爲滿足不同客戶的需求,可分爲以下多種型号。

圖片展示

酸化セリウム研磨粉

酸化セリウム研磨剤は、お客様のニーズに合わせて以下のタイプに分類できます。

圖片展示
圖片展示

ホーム      |      會社概要      |      製品センター      |      応用分野      |      最新情報      |      お問い合わせ      

會社の住所:広東省、深セン市、龍岡區、広達路57号落花生U谷

電          話:0755-29365535

ファックス:0755-29365755

E  メ  ー ル:[email protected]

Copyright @ VillaGrandis All Rights Reserved  粵公網安備 44030702001912号

添加微信好友(yǒu),詳細了解産品
使用企業微信
“掃一掃”加入群聊
複制成功
添加微信好友(yǒu),詳細了解産品
我知(zhī)道了