氧化铈抛光粉主要成份爲二氧化铈（CeO2），其次分别爲氧化镧（La2O3）、氧化镨（Pr2O3）、氧氟化镧（LaOF），此外還含有微量的氧化矽、氧化鋁和氧化鈣。

氧化铈抛光粉廣泛用于玻璃抛光，川研的氧化铈抛光粉具有切削力強、抛光時間短、使用壽命長、抛光精度高的優點。

氧化铈抛光粉根據氧化铈的含量分爲低铈、中铈、高铈抛光粉，其切削力和使用壽命也由低到高。由于铈系稀土抛光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業制品抛光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平闆玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的抛光。

高铈系稀土抛光粉，主要适用于精密光學鏡頭的高速抛光。該抛光粉的性能優良，抛光效果較好，由于價格較高，國内的使用量較少。中铈系稀土抛光粉，主要适用于光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速抛光，該抛光粉與高铈粉比較，可使抛光粉的液體濃度降低11% ，抛光速率提高35% ，制品的光潔度可提高一級，抛光粉的使用壽命可提高30% 。目前國内使用這種抛光粉的用量尚少，有待于今後繼續開發新用途。低铈系稀土抛光粉，适用于電視機顯像管、眼鏡片和平闆玻璃等的抛光。此外，其它抛光粉用于對光學儀器，攝像機和照相(xiàng)機鏡頭等的抛光，這類抛光粉國内用量最多，約國内總用量 85% 以上。